一、設備用途和工藝條件
1.1、設備用途:產品在氧化性氣氛中的連續(xù)氧化銀還原加熱。
1.2、窯內氣氛:空氣或氮氣。
1.3、場地條件:設備周圍無腐蝕性氣體,相對濕度≤85%,供電容量≥42KVA。
二、主要技術參數
2.1、 額定溫度: 350℃
2.2、 常用溫度: 300℃
2.3、熱風功率: 40KW
2.4、 額定電壓: 380V
2.5、 相 數: 三相
2.6、 加熱區(qū)數: 1區(qū)
2.7、進風數量: 3點
2.8、 控溫精度: ≤±3℃
2.9、 截面溫差: ≤±10℃